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CoWoS-S、CoWoS-R、CoWoS-L 到底差在哪?一篇看懂封裝進化三部曲

  • 作家相片: Amiee
    Amiee
  • 4月20日
  • 讀畢需時 5 分鐘
從矽中介層到封裝巨獸,CoWoS 每一個版本都有它的戰場。

在半導體技術的世界裡,有些創新靜悄悄地改變未來。2012 年,當台積電默默發表名為 CoWoS 的封裝技術時,或許沒幾個人知道,這將改變 AI 晶片的戰場。多年後,我們站在 AI 演算法與硬體需求爆炸的十字路口,赫然發現——真正撐起這一切的,是「晶片如何彼此溝通」的能力,而這正是封裝的本事。


有人說,摩爾定律走到瓶頸,工程師們就開始玩疊疊樂。但在 CoWoS 的語言裡,這不是疊,而是「整合」——高速、低延遲、極致的整合。


本文就是一把技術顯微鏡,帶你細看這三個看似只有一字之差的封裝架構,究竟藏了多少設計者的深謀遠慮。





CoWoS 是什麼?為何成為 AI 晶片的封裝王道?


CoWoS(Chip-on-Wafer-on-Substrate)是台積電於 2012 年推出的先進封裝技術,其目標是應對摩爾定律日漸遲緩、晶片效能難以靠單一製程提升的時代挑戰。CoWoS 的架構中,將多個裸晶(Die)安置於一塊矽中介層(interposer)上,該中介層再接到基板,構成完整模組。這樣的異質整合(Heterogeneous Integration)方式允許不同功能晶片共存,例如將高效能邏輯晶片與 HBM(High Bandwidth Memory)整合,實現低延遲與高速資料流。


在封裝技術演化中,CoWoS 是從 2D IC 延伸至 2.5D 的重要里程碑。比起傳統封裝,CoWoS 降低了電訊號的傳輸距離,提高了頻寬與能效比,特別適合大型 AI 模型訓練所需的龐大記憶體頻寬需求。這就像在同一棟大樓內設立不同部門,彼此之間以高速電梯互通,不再需要繞過外部道路。台積電正是靠這套封裝方案,成功吸引 NVIDIA、AMD、Google 等巨頭合作,建立起技術護城河。



CoWoS 的三種進化版本:


🔹 CoWoS-S(Silicon Interposer)

✅ 台積電官方確認 CoWoS-S 採用矽中介層與 TSV 技術,適用於高頻寬 AI 與 HPC 晶片,最大封裝尺寸約 2500 mm²。

CoWoS-S 是最初版本,也是目前台積電最成熟、最被廣泛採用的封裝方式。其技術核心是以「矽中介層」連接多顆晶片(如邏輯 Die 與 HBM),再透過 TSV(Through-Silicon Via,穿矽通孔)實現垂直電訊號穿透,將訊號由上層晶片快速導入底層連接。


矽中介層本身就像一片可布線的晶圓,具備極高布線密度與良好的電氣特性,能提供數百到數千組互連線路,資料傳輸延遲低、串音小,幾乎成為 AI 晶片封裝的首選。例如 NVIDIA H100 就採用此技術,搭配四組 HBM,達到每秒數 TB 的頻寬需求。然而,CoWoS-S 也因為使用高純度矽材與 TSV 製程,其成本極高,加工難度大,且中介層面積受到曝光機台限制,封裝尺寸上限大約為 2500 mm²。



🔹 CoWoS-R(Redistribution Layer Based)

✅ CoWoS-R 使用重分佈層(RDL)與局部矽中介層技術,支援彈性封裝設計,適合成本敏感型 AI ASIC 應用。

CoWoS-R 是為了因應成本與設計彈性需求所推出的變體版本。與 CoWoS-S 相比,CoWoS-R 採用重分佈層(Redistribution Layer, RDL)作為主要連線媒介,部分設計仍可保留矽中介層,但大多透過 RDL 技術將晶片間的訊號重新規劃路徑,以較低成本達成多晶片整合。


RDL 是指在封裝表面布建額外導線層,重新分佈 IO 腳位,並透過多層金屬層實現連線。儘管其布線密度與導電性不如矽中介層,但在中階運算或特化運算(如 AI 加速器、IPU)上已足敷使用。相較 CoWoS-S,CoWoS-R 不僅製程簡化、成本降低,還能支援多樣晶片尺寸與配置,是台積電封裝產品線中極具彈性的選項。不過,在極端高頻寬與訊號完整性要求的領域,RDL 仍略遜一籌。



🔹 CoWoS-L(Large Interposer)

✅ CoWoS-L 結合 CoWoS-S 與 LSI(Local Silicon Interconnect)技術,透過矽橋拼接突破單一中介層尺寸限制,支援 3000 mm² 以上面積,預期將應用於 NVIDIA Blackwell 架構等超大型 AI 系統。

CoWoS-L 可視為 CoWoS-S 的「巨大升級版」,專為超大型 AI 訓練平台與高整合度應用而設計。技術上延續 CoWoS-S 架構,但進一步突破矽中介層尺寸限制,開發出可支援 3000 mm² 以上的超大面積中介層技術。


為實現此一突破,台積電整合了先進光罩拼接(Mask Stitching)與大型晶圓處理工藝,使得單一封裝中能夠整合多顆大型晶片與更多記憶體模組。此設計允許封裝內部形成更龐大的互連網路,有效對應 GPT-5 等兆級參數 AI 模型所需資料流吞吐。不過,隨著封裝尺寸與密度增加,熱管理與封裝機械穩定性成為設計瓶頸,良率挑戰高昂。因此,CoWoS-L 通常僅見於旗艦級晶片,如未來 NVIDIA GB200 系列的高階版本。



技術比較一覽表


為了讓讀者能一目瞭然地掌握 CoWoS 三種版本的核心差異,我們整理出以下技術比較表格。此表不僅呈現各版本在中介層設計、頻寬效能與成本之間的取捨,也標註了它們各自對應的應用領域與具體代表產品。對於工程師來說,這張表就像是設計選型的參考地圖;對於產業觀察者而言,則揭示了先進封裝如何牽動 AI 晶片架構的演變。


技術版本

中介層設計

核心特色

頻寬等級

成本

適用範圍

關鍵應用

CoWoS-S

矽中介層 + TSV

高頻寬、製程成熟

HPC / AI 加速器

H100、MI300

CoWoS-R

矽中介層 + RDL

成本彈性、設計多元

中高階 AI ASIC

定製 IPU

CoWoS-L

超大矽中介層

封裝尺寸極限突破

極高

非常高

超大型模型訓練

GB200、高階 GPU


為何 CoWoS 是台積電的「秘密武器」?


隨著晶片效能越來越難靠單顆 SoC 實現突破,多晶片整合(Chiplet)成為趨勢,而封裝技術就是這場革命的主戰場。CoWoS 作為台積電封裝家族的頂尖代表,具備高頻寬、高彈性與高整合度三大特色,不僅滿足晶片設計者對 AI、5G、HPC 的需求,更與台積電的先進製程(如 N5、N3)無縫對接,形成強大的製造平台優勢。


在未來,當 AI 模型規模呈指數成長、資料中心電力與效率成為瓶頸時,像 CoWoS 這樣的封裝技術將扮演更關鍵的角色。正如同摩爾定律的黃金年代由製程主導,AI 世代的黃金戰場,則由封裝技術接棒續演。台積電正是憑藉 CoWoS,為「後摩爾時代」寫下新的技術篇章。



總結


台積電的 CoWoS 技術不僅是一種封裝方式,更是半導體產業在後摩爾時代中繼續突破效能限制的關鍵解法。從 CoWoS-S 的高頻寬與精密設計,到 CoWoS-R 所帶來的成本與彈性平衡,再到 CoWoS-L 針對 AI 訓練需求所打造的巨型封裝平台,這三種技術版本反映的不僅是工程上的選擇,更是市場策略與應用需求間的角力。每一個技術演進,背後都是製程能力、封裝創新與應用場景精算下的產物。


而 CoWoS 的價值,最終也不只是在於技術多先進,而是它如何實際支撐了 NVIDIA、AMD 等科技巨頭的產品佈局,如何讓晶片得以在功耗與空間極限下繼續進化。隨著 AI 應用愈趨龐大、運算需求不斷突破,我們可以預見封裝將從過去的配角,逐步走上舞台中央,成為主導晶片架構發展的主力。


也許你不是工程師、不是晶圓廠主管,甚至沒見過矽晶圓長什麼樣,但當你下一次看到 AI、HPC、5G 或自駕車相關新聞,想起這三個英文縮寫——CoWoS-S、CoWoS-R、CoWoS-L,不妨會心一笑:啊,那是晶片世界裡正在上演的一齣技術進化大戲。


畢竟,在這場資訊洪流與效能角力的賽局中,誰能封裝一切,誰就可能封王。

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